L'ISL dispose d'une salle blanche de classe 100. Elle permet à l’institut de consolider ses capacités de production de semi-conducteurs de puissance et de continuer à les développer pour atteindre un niveau quasi industriel – les produits réalisés pouvant aller de la simple puce jusqu’à des galettes de 100 mm.
Caractéristiques techniques
Superficie totale : 100 m²
- Système d’écoulement laminaire de l'air permettant une pureté de l'air conforme aux normes ISO 5/6 (classes 100/1 000)
- Equipements et cabines de traitement pour la chimie par voie humide, la photolithographie, le dépôt de couches et le traitement thermique
- Système d'alimentation en gaz de haute qualité et de haute pureté
- Système de purification et de désionisation de l'eau (niveau submicronique)
Possibilités des processus
Capacités de manipulation de plaquette simple, dimensions maximum des plaquettes : 100 mm.
- Chimie humide (nettoyage et gravure des plaquettes standards)
- Photolithographie (taille de la structure min. 0,8 μm)
- Métallisation de contacts (physical vapor deposition) et traitement thermique (< 1300°C)
- Activation thermique de dopants (< 2000°C), croissance de graphène facultative
- Station d’inspection des plaquettes sous vide jusqu’à 20 kV, automatisée
- Découpage de plaquette et bonding fil
Applications
- Technologie des dispositifs semi-conducteurs de haute puissance impulsionnelle
- Technologie des capteurs et technologie de la MEMS
