Das ISL verfügt über einen Reinraum der Klasse 100. Dieser ermöglicht es dem ISL seine Verarbeitungskapazitäten im Leistungs-Halbleiterbereich nahezu vom einzelnen Chip bis zum 100-mm-Wafer zu festigen und weiter auszubauen.

Technische Merkmale

Gesamtnutzfläche 100 m²

  • Laminar-Airflow-Anlage zur Gewährleistung einer Luftreinheit gemäß den ISO-Normen 5/6 (Klassen 100/1,000)
  • Arbeitskabinen und Ausrüstung für Nasschemie, Photolithographie, Beschichtung und Wärmebehandlung
  • Versorgungssystem für technische Gase und ultrareine Gase mit hohem Reinheitsgrad
  • System für die Entionisierung und Reinigung von Wasser (Submikrometerbereich)
  • Wafer-Verarbeitungsmöglichkeiten bis 4 inches (10,16 cm)
Zertifiziertes Institut       Eine gemeinsame Initiative Mitgliedes des Instituts Carnot MICA Partner-Labor

SOC CI V ISO 9001 RGB

      AID ministere armees       bundesministerium der verteidigung

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